製品詳細

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縦型熱処理炉/
DF2600

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スペックシート

本装置は、半導体製造工程における熱処理工程に使用する縦型熱処理炉(拡散炉)システムです。 従来の半導体工場で使用されている大容量タイプの熱処理炉をリーズナブルな価格でしかもユーザの個別要求に対して1台毎の特殊仕様にもフレキシブルに対応します。
特徴

■コストパフォーマンス
導入時の顧客対応カスタマイズや立ち上げ時間の短縮により低価格での提供が可能

■フィッティングパフォーマンス
既存クリーンルームに対応した装置外形
本体寸法:H2600×W900×D1280

■メンテナンスパフォーマンス
主要コンポーネント及びソフトウェアが自社開発の為、将来に渡って保守継続が可能

■カスタマイズパフォーマンス
顧客ニーズに対応した様々なカスタマイズが可能

■プロダクトパフォーマンス
横型炉からの置き換えが可能な省フットプリント

■エネルギーパフォーマンス
高効率ヒータの開発により当社比10%の省エネを達成
オプション対応により高速昇降温や高温プロセスにも対応可能

仕様
●基本仕様
構     造:縦型下方開放方式
処理ウェーハ径:4,5,6,8インチ
処 理 枚 数:プロセスウェーハ 150枚(6インチ以下) 100枚(8インチ)
カセット収納 :プロセス、ダミーを含めて最大8カセット(6インチ以下)
プロセス、ダミーを含めて最大6カセット(8インチ以下)
プ ロ セ ス:WET・DRY・ANNEAL etc
使 用 ガ ス :N2、O2、H2 etc
ウェーハハンドリング :3枚固定(標準)、5枚一括/1枚(オプション)
昇降温レート :昇温 10℃/min max
降温 3℃/min max