製品詳細

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縦型熱処理炉/
DF1600

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スペックシート

本装置は、半導体製造工程における熱処理工程に使用する縦型熱処理炉(拡散炉)です。 現在、半導体製造分野においては、大量生産方式から多品種少量生産方式へと変化してきています。 本装置では、小容量、高速処理が可能であり、かつ、既存のクリーンルームへの設置が可能なサイズとなっております。
特徴

■高速昇降温が可能(FTP対応)
縦型抵抗加熱方式を採用した独特なヒータにより、高速昇温・高速高温を可能にし、高速昇降温処理・通常処理を1台でこなします。

■弊社独自のウェーハ移載システム
弊社独自のウェーハ移載システムを用いることにより、信頼性の高い駆動部となっています。

■ピッチ変換機構搭載
ボート側溝ピッチを任意のピッチに変換してウェーハ移載が可能です。(設定範囲4.76~9.52mm)ウェーハの搬送はカセットToカセットで行われます。

■生産性、操作性を重視した装置
操作部にタッチパネル付きTFTパネルを採用し、生産性、操作性の良い装置となっております。

■ウェーハの低温入炉が可能
ウェーハの低温入炉が可能です。大気の巻き込みの影響を著しく低減します。

■安全かつ容易な反応管の脱着
自動昇降機を利用し、より安全かつ容易に反応管の脱着が行えます。

■独自の温度調節システム
ヒータ及び温度調節システムに独自の方式を採用しているため、温度リカバリー特性が飛躍的に向上しています。

■メンテナンス性
複数台配置した際にも、メンテナンス性、操作性が損なわれないよう配慮された設計になっております。

仕様
●基本仕様
構造縦型下方開放方式
処理ウェーハ径φ100mm~φ200mm
処理方式バッチ処理
50枚/バッチ処理
カセット収納プロセス、モニタ、ダミーを含めて最大9カセット
プロセスWET、DRY、ANNEAL、BAKE etc
使用ガスN2、O2、H2 etc
ウェーハハンドリング5枚/1枚切替移載
昇降温レート 昇温 100℃/min max
降温  50℃/min max